Výrobný proces silikónových obrazoviek s obrazovkou tlače si vyžaduje prísnu kontrolu pred ošetrením obrazovky, fotosenzitívne emulzné povlaky, expozíciu a vývoj a kontrolu kvality, aby sa zabezpečila presnosť a tlačová tlačiteľnosť . Nasledujúce sú konkrétne procesy a kľúčové body:
1. predbežné ošetrenie obrazovky
Výber obrazovky
Materiál: Polyester (dobrý chemický odpor) alebo nylon (vysoká elasticita, vhodná pre zakrivú povrchovú tlač) .
MESH: Vyberte 100-200 sieťou podľa viskozity silikónu (nízka sieť pre vysokú viskozitu a vysokú sieť pre nízku viskozitu) .
Napätie: udržiavajte rovnomerné napätie (zvyčajne 20-25 n/cm), aby ste predišli deformácii obrazovky počas tlače .
Čistenie a odmasťovanie
Použite špeciálne odmasťovacie činidlo (ako je izopropylalkohol) na odstránenie škvŕn oleja na obrazovke, aby ste sa uistili, že fotosenzitívna emulzia je pevne spojená s obrazovkou .
Ošetrenie drsnosti (voliteľné)
V prípade potrieb vysokej presnej tlače môže byť povrch obrazovky mierne zdrsnený pieskovým plášťom alebo chemickým leptaním, aby sa zvýšila adhézia emulzie .
2. fotosenzitívny emulzný povlak
Výber emulzie
Typ: Diazo fotosenzitívne lepidlo alebo vo vode rozpustné fotosenzívne polymérne emulzie so silným odporom vody a odporom rozpúšťadla sa uprednostňuje .
Príklad: Japonsko Murakami (NBC) Séria SBQ Fotografické lepidlo s vysokým rozlíšením a odporom tlače .
Poťahovanie
Metóda: Použite škrabku alebo strážcu rovnomerne natiahnite, zvyčajne 2-3 a opakujte po sušení každej vrstvy .
Podmienky sušenia: 40-50 Stupeň SUSINGY HORKU ALEBO, aby sa zabránilo zhoršeniu emulzie vysokej teploty .
Ovládanie hrúbky: Celková hrúbka filmu sa odporúča, aby bola 10-20 μm, aby sa zabezpečila rovnováha blokovania svetla a odolnosti voči tlači.
3. expozícia a vývoj
Filmová produkcia
Presnosť: Uistite sa, že rozlíšenie filmu je väčšie alebo rovné 300 dpi a hrany riadkov sú jasné .
Umiestnenie: Na zarovnanie obrazovky použite umiestnenie kolíkov alebo krížových špendlíkov, aby ste predišli kompenzácii vzoru .
Expozícia
Svetlý zdroj: gallium jódová lampa (vlnová dĺžka 350-420 nm) alebo kovová halogenta .
Čas: Prispôsobte sa podľa hrúbky emulzie a intenzity zdroja svetla (zvyčajne 10-30 sekundy) a najlepší čas je potrebné určiť testom expozície pravítka .
Vývojová liečba
Vývojár: Slabé alkalické vodné roztoky (napríklad 0 . 5% -1% roztoku uhličitanu sodného).
Operácia: Na opláchnutie nevysvetlenej plochy použite nízkotlakovú vodnú pištoľ, aby ste predišli vysokému tlakovému poškodeniu platne .
Po spracovaní: opláchnite čistú vodu a sucho po vývoji skontrolujte integritu vzoru .
Iv . po spracovaní a testovaní
Posilnenie platne
Vystavenie expozície: Vykonajte sekundárnu expozíciu v oblasti kľúčového vzoru na zlepšenie odporu tlače .
Ošetrenie kalením: Na zvýšenie tvrdosti doskového filmu . použite stroj na vytvrdzovanie UV alebo chemický tvrdok
Kontrola kvality
Vizuálna inšpekcia: Potvrďte, že v vzorke . nie sú žiadne zlomené čiary, buriny alebo pieskové oči .
Test prenosu svetla: Použite podsvietenie na kontrolu vlastnosti blokovania svetla, aby ste sa uistili, že žiadny únik svetla .
Test tlače odporu: Test 50-100 časy a pozorujte opotrebovanie doskového filmu .
5. spoločné problémy a riešenia
Problém spôsobiť riešenie
Film spadne . Obrazovka nie je úplne odmrazená alebo emulzia nie je suchý . Odmasťte znova a predĺži čas sušenia .
Okraj vzoru je rozmazaný . underuxposure alebo nadmerného rozvoja . upravte čas expozície alebo znížte koncentráciu vývojára .
Zlý odolnosť v oblasti tlače . Nedostatočná hrúbka filmu alebo nesprávne spracovanie . Zvýšte počet vrstiev vrstiev alebo posilnite tvrdenie .
6. preventívne opatrenia
Environmentálna kontrola: Udržujte čistú operačnú miestnosť (teplota a vlhkosť 20-25, 50%-60%rh), aby ste predišli znečisteniu prachu .
Ochrana bezpečnosti: Zdroj expozičného svetla obsahuje ultrafialové lúče a ochranné okuliare a rukavice sa musia nosiť .
Údržba zariadenia: Pravidelne čistite stroj a expozičný stroj, aby ste zabránili vytvrdzovaniu emulzie .
Prostredníctvom vyššie uvedeného procesu je možné zaistiť vysokú presnosť a tlačovú odolnosť silikónovej obrazovky, aby sa uspokojili potreby jemných tlačov, ako je napríklad kryt vysokého lesku .